近日消息，日本佳能一直在投资纳米压印（Nano-imprint Lithography，NIL）这种新的芯片制造技术，并计划将新型芯片制造设备的价格定在阿斯麦最好光刻机的很小一部分，从而在光刻机领域取得进展。

纳米压印技术是极紫外光刻（EUV）技术的低成本替代品。佳能首席执行官御手洗富士夫 (Fujio Mitarai) 表示，该公司最新的纳米压印技术将为小型芯片制造商生产先进芯片开辟出一条道路。

“这款产品的价格将比阿斯麦的 EUV 少一位数，”现年 88 岁的御手洗富士夫表示。这是他第三次担任佳能总裁，上一次退出日常运营是在 2016 年。御手洗富士夫还说，最终的定价还没有敲定。

总部位于荷兰费尔德霍芬的阿斯麦是极紫外光刻机的唯一供应商。极紫外光刻机是世界上最先进的芯片制造机器，每台价值上亿美元。这种设备是几十年大量研究和投资的产物，对于大规模生产速度快、能耗低的先进芯片至关重要。

但只有少数现金充裕的公司有能力购买极紫外光刻机。这给佳能最新上市的纳米压印芯片制造设备带来了希望。

自今年年初以来，佳能股价上涨了 27%，其竞争对手尼康公司也上涨了 24%。

佳能与日本印刷综合企业大日本印刷株式会社（Dai Nippon Printing Co.）以及存储芯片制造商铠侠控股（Kioxia Holdings Corp.）合作研究纳米压印技术已有近十年的时间。与通过反射光工作的极紫外光刻技术不同，佳能研究的纳米压印技术是将电路图案直接印在晶圆上，从而制造出据称几何形状与最先进节点相当的芯片，但速度要慢得多。

这种新设备有望让芯片制造商降低对芯片代工厂的依赖，同时也让台积电和三星电子等芯片代工厂更有可能批量生产芯片。佳能表示，这种机器所需功率只有 EUV 同类产品的十分之一。

御手洗富士夫表示：“我不认为纳米压印技术会取代 EUV，但我相信这将创造新的机会和需求。”“我们已经收到了很多客户的咨询。”

佳能此前一直专注于制造普通芯片，2014 年开始大力投资纳米印记技术，收购了主攻纳米压印技术的分子压模公司 (Molecular Imprints Inc.)。作为台积电的供应商之一，佳能正在东京北部的宇都宫市建设 20 年来的第一家光刻设备新工厂，将于 2025 年投产。

御手洗富士夫担任佳能总裁已近 18 年，自 2006 年以来一直担任佳能首席执行官。他出生于 1935 年，1995 年首次执掌佳能时，曾因将公司从运营困境中解救出来而广受赞誉。

佳能最近任命了一批新董事，将于明年加入董事会，其中包括现年 65 岁的佳能美国首席执行官小川和人、59 岁的工业集团总裁武井宏明和 61 岁的高级执行总裁浅田实，这标志着一批新高管正在崛起。

御手洗富士夫说：“寻找继任者是我的责任。”他拒绝就卸任时间、潜在候选人以及公司寻找新一任首席执行官的积极程度等细节信息发表评论。

“我希望这是一个完全的惊喜，”他说。“我们的员工将首先了解它，然后其他人将通过新闻发布会听到它。”

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